4月7日，即将登陆科创板的拓荆科技股份有限公司（简称“拓荆科技”）举办网上路演活动。作为国内高端半导体设备行业重要企业，拓荆科技自成立以来，始终专注于芯片制造设备领域，现已成为国内唯一一家产业化应用的集成电路PECVD（等离子体增强化学气相沉积）、SACVD（次常压化学气相沉积）设备厂商，也是国内领先的ALD（原子层沉积）设备厂商。

　　把握发展机遇 提升市场份额

　　目前，半导体设备行业总体呈现增长趋势。根据SEMI（国际半导体产业协会）统计，全球半导体设备销售额从2014年的约375亿美元增长至2020年的712亿美元，年均复合增长率约为11.28%，具有较高的成长性。

　　值得肯定的是，拓荆科技充分把握行业发展机遇，深耕行业十余年，不断加强自主研发，形成了包括PECVD设备、ALD设备和SACVD设备三个产品系列，经营业绩实现较快发展。招股书披露，2018年至2021年，拓荆科技累计实现营业收入超15亿元，其中2021年营业收入较2020年同比增长3.22亿元，增幅达73.99%。公司主要产品已批量发往各大行业领先集成电路制造企业产线，广泛应用于国内晶圆厂14nm及以上制程集成电路制造产线，并已展开10nm及以下制程产品验证测试。

　　拓荆科技表示，公司近年来的营业收入和客户数量均实现快速增长。预计未来，公司的三大系列产品将持续受益行业高景气度，迎来业绩高速增长期。

　　坚持创新发展 筑牢竞争优势

　　核心技术是企业在市场竞争中的根本。拓荆科技作为高新技术企业，一直立足于自主创新，持续加大研发投入。财务数据显示，报告期（指2018年、2019年、2020年和2021年1-9月）内，拓荆科技的研发投入金额分别为10797.31万元、7431.87万元、12278.18万元和12955.63万元，占各期营业收入比例分别为152.84%、29.58%、28.19%和34.65%。

　　在持续不断的研发投入下，拓荆科技在半导体薄膜沉积设备领域积累了多项研发及产业化的核心技术，搭建了具有设备种类、工艺型号外延开发能力的研发平台，形成了一系列独创性的设计，构建了完善的知识产权体系。截至2022年3月8日，拓荆科技累计已获授权的专利174项（境内153项，其他国家或地区21项），其中发明专利共计98项。同时，公司还先后承担了“90-65nm等离子体增强化学气相沉积设备研发与应用”“1xnm3DNANDPECVD研发及产业化”等多项项国家重大专项/课题。

　　拓荆科技表示，凭借深厚的技术积累，公司持续不断推出满足市场需求的新产品。在PECVD、ALD及SACVD设备领域，公司已形成覆盖二十余种工艺型号的薄膜沉积设备，可满足下游客户晶圆制造产线多种薄膜沉积工艺需求。

　　与此同时，拓荆科技高度重视人才队伍建设，公司国际化、专业化的高级管理团队、全员持股的激励制度，吸引了大量具有丰富经验的国内外半导体设备行业专家加入。据了解，成立以来，拓荆科技始终立足核心技术研发，积极引进海外高层次人才、自主培养本土科研团队。随着多项产品的研发成功，公司本土科研团队已成长为技术研发的中坚力量。截至2021年9月30日，拓荆科技的研发人员累计达189名，占员工总数的44.06%。

　　拓荆科技指出，公司研发技术团队结构合理，专业知识储备深厚，产线验证经验丰富，是奠定公司技术实力的基石，也是公司产品市场竞争力的有力保障。

　　布局未来发展 致力行业领军

　　“目前我国已经成为全球规模最大、增速最快的集成电路市场。”拓荆科技表示，公司需要通过不断研发新技术平台、新工艺机型，以提高公司在国内市场的占有率，从而抓住国内半导体产业高速发展的市场机遇。

　　招股书显示，拓荆科技此次上市拟发行新股3161.98万股，募集资金主要用于高端半导体设备扩产、先进半导体设备的技术研发与改进，以及ALD设备研发与产业化等项目。募投项目均围绕公司主营业务进行，有利于进一步扩大生产经营规模和提高技术研发实力，从而提升公司核心竞争力。

　　拓荆科技表示，未来，公司将继续专注于高端半导体设备的研发生产，扩大现有设备市场占有率，提高设备的技术先进性，丰富设备种类，拓展技术应用领域，提高公司综合竞争力，将公司打造成为半导体设备制造领军者。