GE被美《R&D》杂志评为“全球最佳R&D公司”
    2007-11-28    作者:寿川    来源:《市场报》2007-11-28 第14版
    本报讯 日前,美国权威科学技术杂志《R&D》杂志评选出全球十家“最佳R&D公司”,GE名列前茅。同时,GE还被选为“最成功应对人类科技挑战的公司”,即在解决能源短缺、全球变暖、环境污染以及疾病防治等影响人类未来生存的重大问题方面最有成效的公司;在“研发人员最理想的工作之选”评选中,成为研发人员评价最高并且最向往加入的企业。该评选是由R&D杂志在今年9月份,通过对全球130家研发实力强大的公司在包括知识产权、社区服务、财务状况在内的多项分析和读者反馈调研得出的结果。
    GE公司高级副总裁Mark Little表示,本次评选是对于GE在研发方面努力的认可。在过去的10年,GE投资了上千亿美元用于扩大在美国、欧洲及亚洲研发力量的建设和投入。GE公司在可再生能源、纳米技术、生化科技、安防等技术的研发方面都做出了巨大的努力。今天,GE在全球拥有四个研发中心,分别设在美国纽约、印度班加罗尔、中国上海和德国慕尼黑。
    GE中国研发中心每年完成100多个研究项目,其中包括1/3左右的基础科研项目。截至2006年底,GE中国研发中心共申请了200多项专利。
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