GE逐年增加在华研发投入
2011-09-22   作者:王龙云  来源:经济参考报
 
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  通用电气(GE)中国研发中心总裁陈向力在日前举行的GE科技节上表示,自GE启动“在中国为中国”专项研发项目以来,资金投入逐年增加,一大批由中国本土研发的技术成果不仅赢得了中国市场还走向世界,同时提升了“中国制造”水平。
  据介绍,“在中国为中国”项目启动于2008年,首批投入专项CEO研发资金1500万美元,随后逐年增加,截至2011年累计投入已达1.15亿美元。陈向力表示,2011年是“在中国为中国”项目丰收之年,研发成果将涵盖能源、水处理、照明、检测控制、医疗、工业系统等众多领域,体现了GE研发扎根中国的信心和决心。
  GE中国研发中心成立于2000年,是GE公司四大全球研发中心之一,为其全球业务以及“在中国为中国”项目提供全方位的技术支持。
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